源和小編今天為大家分享半導體行業VOCs廢氣處理的解決方案。

半導體行業中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分。 在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。

     目前，針對這種氣體排放，一 般采用吸附、焚燒或兩者相結合的處理方法。 吸附是利用多孔性固體吸附劑處理混合氣體，使其中所含的一種或多種組分吸附于固體 表面上，達到分離的目的。吸附劑選擇性高，能分開其他過程難以分開的混合物，有效地清 除（或回收）濃度很低的有害物質，凈化效率高，設備簡單，操作方便，且能實現自動控制。

但固體吸附劑的吸附容量小，需要大量的吸附劑，設備龐大，且吸附后吸附劑需要再生處理，是吸附處理的主要缺點。半導體生產場所揮發出來的有機廢氣通過局部排風罩收集，經管道送至吸附凈化系統。一般采用活性炭作為吸附劑。因為活性炭是非極性吸附劑，對廢氣中水蒸氣的靈敏度不高，且價格便宜。 焚燒的方法也廣泛用于半導體行業的各種有機廢氣處理，通過熱氧化將有機物轉化為 CO2 和水。同時，焚燒對處理穩定流量和濃度的廢氣也是一種很好的方法。在熱氧化中，有機廢氣流經過加熱，氣相中的有機物被氧化。為節省燃料使用，通常還使用熱交換器，回收焚燒產生的熱量對進口氣體進行預熱。對于處理大流量、低濃度的氣體，通常都要采用這種方法。 由于半導體行業廢氣焚燒會產生SiO2，且SiO2會使催化劑鈍化，因此半導體行業中很少采用接觸氧化的方法。

一些半導體生產廠也使用旋轉濃縮系統富集有機廢氣，如沸石濃縮轉輪。因為半導體工藝過程中有機廢氣具有排放流量大（通常大于 11039 m3 /小時）和濃度低（通常小于 25ppmv） 的特點，使用其它的處理技術難以達到令人滿意的處理效率。沸石濃縮轉輪使用內帶吸收物質的旋轉輪，其中的吸收物質部分曝露于廢氣流中。轉輪吸收廢氣中的揮發性污染物，并使用蒸汽或熱將其脫附。脫附的氣流中富集了較高濃度的揮發物，這種低流量、高濃度的氣流能很好地被氧化。旋轉濃縮系統用于半導體行業的一個缺點是它對甲醇親和力較差，去除率僅為 40-60％。

     總而言之，廢氣處理方面，半導體行業酸、堿廢氣一般采用相應的堿液吸收和酸液吸收進行處理， 工藝方法已非常成熟，只要適當優化相關工藝參數，能夠滿足本標準的要求，需要關注的有 機廢氣的處理。目前處理有機廢氣的工藝有吸附法、吸收法、直接燃燒法、催化燃燒法、冷凝法等，吸附法采用活性炭直接吸附，凈化效果好，但是運營成本會很高；吸收法適合于溫度低、中高濃度的廢氣；直接燃燒法適合于高濃度、小風量廢氣治理；冷凝法適用于成分相 對單一、濃度高、且有一定回收價值的有機廢氣。對于半導體行業低濃度、大風量、成分復雜的有機廢氣，吸附法、吸收法、燃燒法、冷凝法均不適用，比較適用的是吸附——催化燃燒法。目前省內一些大型半導體企業已采用沸石轉輪濃縮后燃燒，該方法適用于大風量、低濃度、常溫的有機廢氣處理，凈化效率達到90％以上，濃縮比達20﹕1，運行費用較低，設備處理風量大，占地面積小，不產生二次污染，可持續脫附并處理污染物。根據企業實際運 行情況，有機廢氣進氣濃度在200mg/m3以上時，處理效率達到95%；200mg/m3以下時處理 后濃度控制在20mg/m3，可保證廢氣達標排放。

通過小編以上的介紹，您是否對半導體行業VOCs處理有了更深入的認識了呢，希望能幫助到您。如您想了解更多的廢氣處理相關知識，歡迎您關注源和環保。

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